ULTRAHØJ VAKUUM

Ultrahøjvakuum (UHV) er vakuumregimet, der er kendetegnet ved tryk, der er lavere end ca. 10–9 mbar (eller 10-7 Pa). Ultrahøjvakuumbetingelser er nødvendige for mange overfladeanalytiske teknikker, såsom X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Auger electron spectroscopy (AES), Secondary ion mass spectrometry (SIMS) eller Field Emission Microscopy (FEM). Også tyndfilmvækst og fremstillingsteknikker med strenge krav til renhed, såsom molecular beam epitaxy (MBE) og atomic layer deposition (ALD) er afhængige af UHV-betingelser.

Leybold tilbyder en bred vifte af avancerede vakuumløsninger til brug i ambitiøse ultrahøjvakuumanvendelser. Deres komponenter, systemløsninger og eftersalgsservice har vist deres fordele i større forskningscentre over hele verden.

Du finder Leybolds katalog her.

Kontakt medarbejder for nærmere information

Steen Rasmussen, Distriktchef Vakuum

  4320 2687   |      3017 7861   |      sra@granzow.dk

Kontakt os og hør mere om vores produkter

– og hvordan vi laver den bedste løsning til dig
 

 

Vores leverandører og samarbejdspartnere